最新光学CD测量设备上市
测量设备供应商Nanometrics公司日前宣布针对光学CD测量(OpticalCD,OCD)推出一款最新设备及软件产品——NanoStation系统配置了新一代严格耦合波分析(RCWA)OCD软件。
NanoStation系统拥有最领先的多核CPU技术以及Nanometrics公司先进的ADAP散射测量模型软件。工艺工程师可在此系统上应用多种测量技术,包括NI-OCD和SE-OCD,并且可以在Atlas,FLX及9010Series系统上快速传输数据。
Nanometrics产品营销部主管DavidDoyle表示,先进工艺控制(APC)将有助于低成本半导体器件的实现,而精确的光学CD测量又是其中重要一环。我们最新的OCD系统将给客户带来显著的成本效益。
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